半導體凈化車間潔凈度等級標準及要求半導體特性決定其制造過程必須有潔凈度要求，環境中雜質對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，而雜質各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，塵埃粒子破壞半導體器件的表面結構等，所以在半導體器件生產過程中對什么都須嚴格控制。針對這個問題，合景凈化工程公司有著自己的專業技術和行業經驗，服務了眾多行業頭部企業，經過合景凈化接手的全國各地廠房建設均獲得了優質工程建設的榮譽。

       在半導體制造業中，由于其昂貴設備的min感性和制造過程的復雜性，工廠的布局變得不可以輕易更改，初始的不合理布局結果會導致龐大的物料搬運成本、無效的生產以及重新布局時所需要的大量成本。特別是迅速發展的亞微米工藝對生產場所空氣潔凈度要求特別高，所有半導體制程設備都須安置在隔絕粉塵進入的密閉空間中，這樣，工廠投產以后整體生產系統才能發揮大的生產效能。

       半導體器件生產環境按單位體積重規定的塵埃粒子數標準分成潔凈度的等級。一般分為：10級、100級、1000級、10000級、100000級，國際標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯邦標準中均有規定潔凈室和潔凈區內空氣以大于或等于被考慮粒徑的粒子最大濃度限值進行劃分的等級標準。

       電子產品性能、質量的提高和生產過程的微細化，日益要求生產環境具有一定的空氣潔凈度級別和控制凈化車間內工藝生產所需的各類高純物質的供給質量，目前國內外還沒有統一電子產品的空氣潔凈度等級或生產環境控制要求的統一 規定，各種電子產品的生產廠家依據其生產的產品品種、所采用的生產工藝技術、生產工藝設備、生產用原輔料以及凈化車間運行的實踐經驗確定設計建造凈化車間的空氣潔凈度級別等級（如下表格）。